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本发明涉及一种应用于改善LDD流程镭射孔塞孔假露的工艺,包括以下步骤:在经过镭射打孔后,将印刷线路板半成品进行超声波水洗;采用200目网版,印刷刮刀与墨刀需呈八字脚,印刷线速度控制在2~4m/min.印刷刮刀以及墨刀与印刷线路板半成品的夹角角度控制在2~20°,印刷刮刀与墨刀的压力控制在0.2~0.3Mpa;曝光能量控制在900~1100mJ/S,曝光机的精准对准度控制在30~50;显影点控制在30‑50%,显影线速控制在3‑4m/min;重复以上步骤的次数为至少2次,完成改善LDD流程镭射孔塞
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113411969 A
(43)申请公布日 2021.09.17
(21)申请号 202110606186.5
(22)申请日 2021.06.01
(71)申请人 高德(无锡)电子有限公司
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