光掩模版的瓶颈在于石英基板.pdfVIP

产业深度 1. 掩膜版行业基本介绍 掩膜版（Photomask ）又称光罩，由不透光的遮光膜在透光的基板一侧形 成图形，然后通过曝光方式将此图形复刻到产品的基板上，主要应用于 IC、LCD 、OLED 和PCB 等微电子行业。 设计公司完成产品版图的开发设计，将该产品版图交付给晶圆代工厂进 行生产。但是在量产阶段，晶圆代工厂直接采用产品版图用于曝光工艺 会导致生产效率低下，而掩膜版作为模具能有效解决这个问题。 1.1. 掩膜版工作原理 掩膜版的工作原理类似于传统相机中的“底片”。对下游制程材料（一般 是镀有遮光膜的基板上再涂有一层光刻胶）通过掩膜版进行曝光，随后 通过显影、刻蚀、脱模、清洗等工艺将掩膜版上的设计图形复制到下游 制程材料上，其特点是企业可以借此批量生产标准化产品。 图 1 ：掩膜版用于IC 制造工艺的光刻流程 数据来源：清溢光电招股说明书 1.2. 掩膜版：石英玻璃性质最好 掩膜版主要由透光的基板和不透光的遮光膜组成。按基板材料分类，主 要分为玻璃基板（石英玻璃、苏打玻璃和硼硅玻璃）和树脂基板两大类； 其中，因石英玻璃的化学稳定性高和热膨胀率小的优势，在使用环境上 相对于其他材料对工艺生产环境的要求较低，现主要应用于制造高世代、 高精度产品如高世代IC 和超大尺寸显示面板。按遮光膜材料分类，主要 分为乳胶遮光膜和硬质遮光膜（主要包括铬、硅、氧化铁）两大类；其 中，铬相较于其他遮光膜材质能够形成更细微精确的图形，目前用于高 精产品较多。 表 1 ：基板和遮光膜分别以石英玻璃和铬为未来发展趋势 分类方法 名称 材料 优点 缺点 应用领域 树脂基板 树脂 质量轻，易大型化 易变形 PWB 用掩膜版 LSI 用掩膜版， 石英玻璃 化学性能稳定，热膨胀率低 价格高 按基板材料 FPD 用大型掩膜版 分类 玻璃基板 热膨胀率大， 苏打玻璃 价格便宜 低端掩膜版 短波长投射率低 硼硅玻璃 热膨胀率接近硅 短波长投射率低 LSI 用 Copy Mask 乳胶遮光膜