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OM光学显微镜 optical microscope  原理 显微镜是利用凸面镜的放大成像原理，将人眼 不可以分辨的细小物体放大到人眼能分辨的尺 寸，其主假如增大近处细小物体对眼睛的张角 （视角大的物体在视网膜上成像大），用角放 大率M表示它们的放大本事。  大于0.2nm 看不清亚构造 EDS能谱仪 (Energy Dispersive Spectrometer) （分为点、线、 面扫map）  各样元素拥有自己的X射线特色波长，特色波 长的大小则取决于能级跃迁过程中开释出的特 征能量△E，能谱仪就是利用不一样元素X射线 光子特色能量不一样这一特色来进行成分剖析 的。  探头：一般为Si(Li)锂硅半导 体探头 探测面积：几平方毫米 分辨率（MnKa）：～133eV SEM扫描电子显微镜 scanning electron microscope）  利用二次电子信号成像来察看样品的表面形 可直接利用样品表面资料的物质性能进行微观成像 分辨率：3-4nm 态，即用极狭小的电子束去扫描样品，经过电 利用聚焦得特别细的高能电子束在试样上扫描，激 放大倍数：20万倍 子束与样品的相互作用产生各样效应，此中主 发出各样物理信息。经过对这些信息的接受、放大 假如样品的二次电子发射 特色X射线、背散射电子的 和显示成像，获取测试一试样表面容貌的察看。 产生过程均与样品原子性质 介于透射电镜和光学显微镜之间的一种微观性 其工作原理是用一束极细的电子束扫描样品，在样 有关，可用于成分剖析。 貌察看手段 品表面激发出次级电子，次级电子的多少与电子束 因为电子束只好穿透很浅表 当一束极细的高能入射电子轰击扫描样品表面 入射角有关，也就是说与样品的表面构造有关，次 时，被激发的地区将产生二次电子、俄歇电 级电子由探测体采集，并在那边被闪耀器转变成光 面，只好用于表面剖析。 子、特色x射线和连续谱X射线、背散射电 信号，再经光电倍增管和放大器转变成电信号来控 有很大的景深，视线大，成 子、透射电子，以及在可见、紫外、红外光区 制荧光屏上电子束的强度，显示出与电子 束同步 像立体，可直接察看表面的 域产生的电磁辐射。 的扫描图像。图像为立体形象，反应了标本的表面 细微构造； 构造。 SEM是利用电子和物质的相互作用，能够获取 试样制备简单。 被测样品自己的各样物理、化学性质的信息， 如容貌、构成、晶体构造、电子构造和内部电 目前的扫描电镜都配有 X射 场或磁场等等。主假如利用二次电子信号成像 线能谱仪装置，这样能够同 来察看样品的表面形态，即用极狭小的电子束 时进行显微组织性貌的察看 去扫描样品，经过电子束与样品的相互作用产 和微区成分剖析 生各样效应，此中主假如样品的二次电子发 射。 TEM透射电镜 (transmission electron microscope  把经加快和齐集的电子束投射到特别薄的样品上，电子与样品中的原子碰撞而改变方向，从而产生立体角散射。散射角的大小与样品的密度、厚度有关，所以能够形成明暗不一样的影像，影像将在放大、聚焦后在成像器件上显示出来。 因为电子波长特别短，透射电子显微镜的分辨率 比光学显微镜高的好多，能够达到0.1～0.2nm，放大倍数为几万～百万倍。  与光学显微镜的成像原理基本同样，所不一样的是前者用电子束作光源，用电磁场作透镜。 透射电镜是以电子束透过样品经过聚焦与放大后所产生的物像，?投射到荧光屏上或照相底片长进行察看 SEM是电子束激发出表面次级电子,而TEM是穿透试 样,而电子束穿透能力很弱,所以TEM样品要求很薄,  0.2nm 近百万倍 亚显微构造、超微构造 使用透射电子显微镜能够用于察看样品的精美构造，甚至能够用于察看不过一列原子的构造，比光学显微镜所能够察看 sem tem 差别  到的最小的构造小数万倍。 SEM的样品中被激发出来的二次电子和背散射 TEM能够标定晶格常数，从而确立物相构造； SEMSEM是扫描电镜，所加电压 电子被采集而成像.TEM能够表征样品的质厚 主要能够标定某一处的元素含量，但没法正确测定 比较低，不过扫描用的，相 衬度，也能够表征样品的内部晶格构造。TEM 构造。 当于高倍的显微镜TEM是透 的分辨率比SEM要高一些。 射电镜，所加电压高，能够 SEM样品要求不算严格，而TEM样品察看的部 打透样品， 分一定减薄到100nm厚度以下，一般做成直径 3mm的片，而后去做离子减薄，或双喷。 HRTEM高分辨透射电镜 Highresolution transmission electron microscope  高分辨电镜物镜极靴间距比较小，所以双倾台类TEM 的转角有关于剖析型的电镜要小一些。 HRTEM是透射电镜的一种，将晶面间距经过明 暗条纹