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830nm-930nm红外增透膜的制备
Preparation of 830nm-930 nm infrared antireflection
摘 要
薄膜光学技术是现代光学技术的重要组成部分，已经与我们的生活息息相关。本文通过薄膜光学理论计算、薄膜系统设计和光学软件设计薄膜并涂上TXX-700涂层系统，设计了R<0.25%频段的830nm-930nm频段。
膜层的镀制是一个复杂的过程，与许多类相关，通过用于分析和研究影响薄膜层在涂层过程中性能的工艺元素的涂层设备进行的实验。在膜设计、涂层材料性能、材料稳定性、薄膜层厚度监测等方面做了大量工作，并满足了反射率R<0.35
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