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一种刻蚀仿真模型的构建方法,包括:对于多个光刻设计图案,均采用预设的刻蚀参数的Np个值对样本进行刻蚀,以得到对应的刻蚀轮廓;确定各个光刻设计图案在Np个刻蚀参数值下的刻蚀偏差尺寸;分别将所述光刻设计图案的尺寸以及刻蚀偏差尺寸代入刻蚀概率卷积模型,以确定所述刻蚀概率卷积模型的仿真参数组中的各个仿真参数值;根据各个仿真参数值随着所述Np个刻蚀参数值的变化,将各个仿真参数划分为对所述刻蚀条件敏感的敏感仿真参数以及对所述刻蚀条件不敏感的钝感仿真参数;更新所述刻蚀概率卷积模型;基于所述更新后的刻蚀概率卷积
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 115935779 A
(43)申请公布日 2023.04.07
(21)申请号 202210925445.5
(22)申请日 2022.08.01
(71)申请人 先进半导体材料(安徽)有限公司
地
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