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薄型光学零件的加工 随着现代光学设备的发展，对光学零件的要求也越来越高。光学仪器中使用薄型光学零件的地方越来越多,甚至在某些特定条件下,必须使用薄型光学零件。 薄型光学零件是指厚度与长度(或直径)比一般小于1:10,有时达到1:40以上。如上海光学仪器厂生产的台式投影仪中的半透反光镜,其尺寸为22 mm×32 mm×0.8 mm,其厚度与长度比为1:40;又如金相显微镜中的半透反射镜,其厚度为1.5 mm,椭圆长轴为29 mm,短轴为20.5 mm,而N=0.5,ΔN=0.1,平行度为10 s,两面抛光。加工这样的薄型光学零件是很困难的。薄型光学零件加工困难的原因主要在于各种变形,包括胶结变形、热变形、应力变形等 1 零件内部产生力 胶结变形主要是由于粘结胶固化后与玻璃的收缩率不同,而对零件产生了一定的拉力,使零件表面产生了变形。解决的方法即选择适合的上盘方法,减少粘结胶对零件表面的拉力,下面介绍几种常用的胶结变形小的上盘方法。 1.1 松香蜡的上盘和冷却 成盘加工薄型光学零件,常采用浸松香蜡上盘方法,对克服变形有比较满意的效果。这种方法是将零件擦干净后,放到垫板上(垫板最好使用熔石英玻璃,零膨胀系数玻璃等低膨胀系数材料)将垫板加热,其温度以能使松香蜡充分熔化为宜,温度升至合适时停止加热,用细棍沾少量熔化的配比适宜的松香蜡,逐个点在零件和垫板相接触的地方,这时松香蜡液因毛细现象逐渐进人零件与垫板之间,待垫板同零件自然冷却至室温,即可以进行细磨和抛光。 浸蜡上盘过程是一个加热和冷却的过程,尤其是在此过程中还有松香蜡的凝固作用,上盘前和上盘后的零件内部应力状态是不同的。因此浸蜡上盘法也存在变形。实践表明,用这种浸蜡上盘法磨平面(例如磨Φ=30 mm,d=2 mm的平面;Φ=50 mm,d=3 mm的平面)零件,精度达到θ=5″~10″,N=2,ΔN=0.2是不困难的。 1.2 软、软胶的铺设 对于大口径高精度薄型零件可以采用软点胶法上盘,用软点胶上盘可减少胶结变形。它是采用软的粘结胶,甚至是纯柏油胶做成的点子胶,并先粘在粘结模上,均布并保持一定的距离。然后压平点胶,涂上少许苯或汽油,再把零件对准放上,不加外力,依靠零件自重使之自然粘合。这种方法常用于平面或球面的薄型光学零件。图1所示的是用软点胶上盘加工薄型平面的情况。 1.3 浮胶上盘法高精度零件的制备 这种方法使零件贴置面与粘结平板不形成光胶那样的接触,又不渗入胶,主要依靠零件侧面胶结力来上盘的。这种方法适用于小直径高精度的零件及形状不对称的薄型平面零件。浮胶上盘方法如图2所示。 粘结平板具有1/2~2N的平面度,零件贴置在平板上,应看到均匀、明显的光圈,零件贴置后,将熔化的松香蜡(松香与蜡的比例为3:1)浇在零件空隙间,高度为一半多一点为宜。松香蜡温度不宜过高,以免蜡渗入贴置面。利用这种方法加工Ф=150mm,d=5 mm的扇形光学零件,精度可达到0.5光圈。 1.4 光胶件的特性 光胶法完全克服了胶结变形,比以上方法具有更高的加工精度。光胶法要求光胶工具的工作面与零件的贴置面均具有很高的面形和粗糙度,两个表面要经过精细清洁之后再贴合,以使两面的距离达到分子吸引力作用的范围内,即两个表面靠分子吸引力而结合。 光胶件的变化趋势如图3所示。光胶件对温度比较敏感,当周围介质温度高于两光胶件温度时,则产生低光圈变化趋势,如图3a所示,当周围介质温度低于两光胶件温度时,则产生高光圈的变化趋势,如图3b所示。高光圈变化趋势更易造成边缘开胶,这就是为什么光胶件耐急冷比耐急热性能差的原因。耐急冷性能差,虽然是光胶件的缺点,但可以利用这一特性,排除气泡或打开不合格的零件,并且不会使表面有所损坏。光胶件应尽量避免高光圈和塌边。 如果温度是缓慢变化,光胶件本身内部温度均匀,但此刻温度与光胶时的温度不同,据国外学者的研究表明,对于光胶的两平面零件,随温度变化而引起的光圈变形可用下式计算 其中,N为偏离平面的光圈数;θ 由上式可知,Δα愈大,变形愈大。如果两光胶零件材料相同,即Δα=0,则N=0,这说明只要温度均匀变化,不会改变光胶件的表面形状,光胶件就像单块零件一样。光胶法不仅可以加工高精度面形的零件,而且还可以加工秒角级平行度的光学零件 1.5 分离器加工方法 分离器法也可以完全克服胶结而产生的变形,主要用来加工高精度平面零件,也可以用来加工薄型平面。 分离器是一种具有不同心的圆孔的玻璃圆盘,其材料要求应力小,膨胀系数小,通常使用K9、K4、QK2等玻璃制作。分离器的基底平度要高,厚度与直径比为1:8~1:10左右,外径为200~400 mm左右。孔的面积占工作面积的1/3~1/4。孔的边缘离分离器不小于20 mm,孔的直径比被加工零件大5~10 mm。加工时把零件放到孔中,如图4所示。 采用分