原创力文档- 1、本文档共11页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
MOSFET图设计学习课件第1页/共107页
参考文献第2页/共107页1 . Alan Hastings著 . 张为 译 . 模拟电路版图的艺术.第二版 . 电子工业出版社 . CH11-12
本章主要内容MOSFET版图基础MOSFET版图样式MOSFET的匹配CH4第3页/共107页
MOSFET版图基础NMOS版图第4页/共107页
MOSFET版图基础NMOS版图有源区掩膜光刻胶2氮化硅二氧化硅衬底第5页/共107页
MOSFET版图基础NMOS版图有源区掩膜氮化硅二氧化硅场氧衬底第6页/共107页
MOSFET版图基础NMOS版图有源区掩膜衬底第7页/共107页场氧
MOSFET版图基础NMOS版图有源区掩膜衬底第8页/共107页薄氧场氧
MOSFET版图基础NMOS版图场氧场氧衬底第9页/共107页薄氧Poly
MOSFET版图基础NMOS版图场氧场氧薄氧Poly掩膜光刻胶Poly衬底第10页/共107页
MOSFET版图基础NMOS版图场氧场氧Poly掩膜光刻胶 Poly Poly薄氧衬底第11页/共107页
文档评论（0）