浴法抛光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究(1).pdf

2014年11月 OPTICAL TECHNIQUE Nov. 2014 文章编号：100206-0486-06 浴法抛光中抛光粉粒径对去除 效果影响的试验研究 张杨1,徐清兰2,陈梅,张蓉竹1 1.四川大学电子信息学院，四川成都610064) t.中国科学院光电技术研究所，四川成都610209) 摘要：为了分析抛光粉粒径对材料去除效果的影响.选用不同的平均粒径以及不同比例混合氧化铈抛光粉分别 对K9玻璃进行了抛光试验。对抛光后的工件表面粗糙度及去除量进行了定量研究。结果表明，在试验条件相同的性 况下，不同平均粒径的抛光粉，粒径越小，抛光后的元件表面粗糙度越好。从使用不同比例的混合抛光粉试验中可以看 出，粒度的均匀性是影响工件表面粗糙度的重要因素。结合抛光粉粒度分布图和试验结果可以看出，抛光粉粒子的分有 范围越小以及各粒径大小分布在峰值附近的粒子所占体积百分比越接近，加工后的工件表面粗糙度越小 关 键 词：浴法抛光；抛光粉粒径；抛光粉均匀性；表面粗糙度；去除速率 中图分类号：TG58 文献标识码：A DOI:10.13741jcnki.11-1879/04.2014.06.002 电器件、软X射线光学系统、高能激光反射镜、激光 0引言 陀螺反射镜以及高密度波分复用器的应用对所使用 随着科学技术的发展，精密加工、超精密加工 的元件或基板的表面粗糙度提出了更高的要 已 .,………………_..….… 求1.21.同时在抛光过程中也引起了高度的重 · 收稿日期收到修改稿日期：2014-03-24 E-mail:zhangyang-z-y@126.cm 作者简介张杨{987一).女，硕士研究生主要从事光学加工方面的研究。 486 第6期 张杨，等：浴法掘光中抛光粉粒径对去除效果影响的试验研究 对于不同的材料，为满足不同的要求，需要采用的 式中D为磨料嵌入到工件表面所产生的压痕深 抛 度； 光方法也不同。由于安全、适用范围广、使用寿命 d。为软质层的厚度古为磨料的自身变形量。 长、环保以及抛光质量高等优点，磨料抛光已被广泛 在实际加工中，磨料在抛光过程会产生滑动，磨 应用①。磨料抛光有不同的加工方式，其中浴法执 料只是在嵌入被抛光材料的部分受力，由于嵌入被 光、胶盘抛光、固着磨料抛光等都是比较常用的抛光 抛光表面的深度很小，在受力方向与球形磨料垂直 方式。磨料作为抛光介质在材料的去除过程中发挥 轴向间的夹角很小，因此磨料实际受力很小，这样可 了极其重要的作用，磨料自身的性质也极大地影呼 以近似地将磨料视为球状，根据弹性力学相关 抛光表面的质量，所以在加工过程中如何选择磨料 】一 2 2 1/3 [9 1 1- 的粒度、浓度、硬度等参数，对提高工件表面粗糙度 δ= × + + ×F 3) 82RE: E: 和加工效率都具有重要的意义 。因此，为了葬 式中E,和E?分别表示磨料粒子和抛光盘材料的弹 取更为光滑的光学表面.本文将重点针对粒度对工 性模量μ和μ分别表示磨料粒子和抛光盘材料 的泊松比。 1基础理论