2020年光刻胶辅助材料行业研究报告.pdfVIP

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2021-12-03 发布于重庆
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2020年光刻胶辅助材料行业研究报告.pdf

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光刻胶辅助材料行业研究报告 2020年 Copyright© 内部资料，仅供会员学习使用目录 1 光刻胶辅助材料行业概况 2 光刻胶辅助材料产业链分析目录 3 光刻胶辅助材料行业市场分析 4 光刻胶辅助材料行业重点企业分析 5 光刻胶辅助材料行业发展趋势 Copyright© 内部资料，仅供会员学习使用光刻胶辅助材料行业概况—简介光刻胶的定义  光刻胶（photoresist ，国内又称光致抗蚀剂）是一类利用光化学反应进行精细图型转移的化学品。它是一种有机化合物，受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。  光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，大大促进了光刻胶的研究开发和应用，印刷工业则是光刻胶应用的另一重要领域。光刻胶的特点分辨率对比度敏感度粘滞性粘附性抗蚀性表面张力区别硅片表面对比度越一个良好的随着光刻胶中的粘附性不保持粘附性，具有比较小相邻图形特征好，形成图图形所需一溶剂的减少而增足会导致在后续的刻蚀的表面张力，的能力，形成形的侧壁越定波长光的加，高的粘滞性硅片表面工序中保护衬使光刻胶具的关键尺寸越陡峭，分辨最小曝光量。会产生厚的光刻的图形变底表面。有良好的流小，光刻胶的率越好。胶，越小的粘滞形。动性和覆盖。分辨率越好。性就有越均匀的光刻胶厚度。 Copyright© 资料来源：网络公开资料，赛瑞研究整理内部资料，仅供会员学习使用光刻胶辅助材料行业概况—主要辅助材料  光刻胶的主体成分包括感光化合物（感光树脂、光刻胶树脂）、胶体（聚酯胶和环化橡胶）光刻胶溶剂以及基体材料等。  光刻胶在生产过程中，需要添加各种辅助材料，包含增感剂、光引发剂、感光剂、显影液、蚀刻剂、去胶液等辅助材料。光刻胶材料主体材料辅助材料感活基光光増感蚀去性胶体溶引化感光刻胶稀体材剂