原创力文档- 1、本文档共12页，其中可免费阅读4页，需付费130金币后方可阅读剩余内容。
- 2、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。
- 3、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 4、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
实验报告 反应离子刻蚀工艺及其半导体激光器工艺应用 ，无42
实验一 反应离子刻蚀工艺及其半导体激光器工艺应用 实验报告
无42 2014-01-1070
一、实验目的
1. 了解反应离子刻蚀过程的物理原理；
2. 了解真空获取的方式及相关设备的基本结构；
3. 了解半导体异质结激光器的物理原理和基本结构；
4. 熟悉半导体异质结激光器的制作工艺过程。
二、实验原理
1.
文档评论（0）