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本发明涉及一种谐振腔的制备方法,包括步骤:S1,选择未经刻蚀的有源层,将其划分为第一区域和第二区域,第二区域远离第一区域的一端为出光端,S2,对第一区域进行下沉刻蚀,并对第二区域进行形貌刻蚀,得到具有若干凸出部的第一阶段的谐振腔,S3,在第一阶段的谐振腔上掩埋外延生长有源层材料,加厚有源层,S4,生长完毕后,再次对第二区域进行形貌刻蚀,得到具有若干凸出部的第二阶段的谐振腔,第二阶段的谐振腔的各凸出部的尖端的连线和第二阶段的谐振腔的各凸出部的尖端的连线平行。还提供一种谐振腔和一种半导体激光器芯片。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117712825A
(43)申请公布日2024.03.15
(21)申请号202311603103.2
(22)申请日2023.11.28
(71)申请人武汉云岭光电股份有限公司
地址
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