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本发明公开了一种掩膜及其制造方法、约瑟夫森结的制造方法。掩膜包括:第一光刻胶层,用于形成在衬底上,第一光刻胶层形成有贯通的窗口;第二光刻胶层,形成于第一光刻胶层上,第二光刻胶层对应窗口的区域内形成有连通窗口且互不连通的第一沟槽和第二沟槽,第二沟槽的端面朝向第一沟槽的侧面。约瑟夫森结的制造方法使用了该掩膜或掩膜的制造方法形成的掩膜,在制造约瑟夫森结时,通过第一沟槽进行直蒸发形成第一超导层,再通过第二沟槽进行斜蒸发形成位于至少部分势垒层上的第二超导层。本发明能够使势垒层的厚度和超导层的线宽更均匀,进
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116682721 A
(43)申请公布日 2023.09.01
(21)申请号 202310737296.4
(22)申请日 2023.06.19
(71)申请人 本源量子计算科技 (合肥)股份有限
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