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本申请公开了一种复合高电子迁移率晶体管及其制备方法。复合高电子迁移率晶体管包括:第一区域和第二区域;衬底,为第一半导体类型,位于第一区域和第二区域;第一外延层位于衬底的一侧,位于第一区域和第二区域;基极层为第二半导体类型,位于第一外延层背离衬底的一侧;第二外延层位于基极层背离衬底的一侧;第一部分位于第一区域,第二部分位于第二区域,第二部分包括第一凹槽,第一凹槽位于第二部分背离衬底的一侧;接触部为第一半导体类型,位于第二区域,设置于第一凹槽;第三外延层位于第一区域,设置于第一部分背离衬底的一侧;势
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116666216 A
(43)申请公布日 2023.08.29
(21)申请号 202310737174.5
(22)申请日 2023.06.20
(71)申请人 苏州华太电子技术股份有限公司
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