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CN114122370A-一种多孔碳双键修饰诱导硅烷沉积的负极材料及其制备方法和应用.doc

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    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 114122370 A (43)申请公布日 2022.03.01 (21)申请号 202111277420 .0 (22)申请日 2021 .10 .29 (71)申请人 西安交通大学 地址 710049 陕西省西安市咸宁西路28号 (72)发明人 宋江选　查光明　王帅　 (74)专利代理机构 西安通大专利代理有限责任 公司 61200 代理人 崔方方 (51)Int.Cl . H01M 4/38(2006 .01) H01M 4/62(2006 .01) H01M 10/052(2010 .01) (54

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