铲平-中国有色金属标准质量信息网.DOC

YS/T/ ×××—×××× YS/T/ 554—×××× Ⅰ PAGE 1 YS中华人民共和国工业和信息化部发布××××-××-××实施××××-×× YS 中华人民共和国工业和信息化部发布 ××××-××-××实施 ××××-××-××发布 溅射用钽靶材 Tantalum sputtering targets （送审稿） YS/T××× —×××× 中华人民共和国有色金属行业标准 ICS 77.150.99 H 63 YS/T XXX—XXXX PAGE 1 前言 本标准是按照GB/T 1.1-2009给出的规则起草的。 本标准由全国有色金属标准化技术委员会（SAC/TC243）归口。 本标准起草单位：宁夏东方钽业股份有限公司。 本标准参与起草单位：宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司。 本标准主要起草人：XXX、XXX、XXX、XXX、XXX、XXX。 PAGE 8 PAGE 7 溅射用钽靶材 1 范围 本标准规定了用以制备薄膜的溅射用钽靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单（或合同）内容。 本标准适用于以真空电子束熔炼的高纯钽锭为原料，通过塑性加工、热处理、机械加工、焊接等方法制造的溅射用钽靶材（以下简称钽靶材）。 2 规范性引用文件 下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本文件。凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用于本文件。 GB/T 1804一般公差 未注公差的线性和角度尺寸的公差 GB/T 4340.1金属材料维氏硬度试验第1部分：试验方法 GB/T 6394金属平均晶粒度测定方法 GB/T 8170数值修约规则与极限数值的表示和判定 GB/T 8651 金属板材超声波检测方法 GB/T 15076.8钽铌化学分析方法碳量和硫量的测定 GB/T 15076.13 钽铌化学分析方法 钽中氮量的测定 GB/T 15076.14 钽铌化学分析方法 氧量的测定 GB/T 15076.15钽铌化学分析方法氢量的测定 GB/T 20967-2007无损检测目视检测总则 YS/T 837溅射靶材-背板结合质量超声波检验方法 YS/T899高纯钽化学分析方法痕量杂质元素的测定辉光放电质谱法 3 要求 3.1 产品分类 钽靶材按纯度分为：3N5（99.95%）、4N（99.99%）、4N5（99.995%）三个级别。 3.2 化学成分 钽靶材的化学成分应符合表1的规定。 表 1 钽靶级别和对应的杂质元素 级别 元素 3N5（99.95%） 4N（99.99%） 4N5（99.995%） 非气体杂质含量/wt（10-4）%,不大于 Al 10 5 0.5 Ca 5 2 0.5 Co 10 1 0.5 Cr 10 10 0.5 Cu 10 3 0.5 Fe 50 3 0.5 K 1 0.5 0.5 Li 1 0.1 0.1 Mg 10 1 0.5 Mn 10 1 0.5 Mo 50 10 10 Na 1 0.5 0.4 Nb 300 100 30 Ni 20 2 0.5 Si 20 10 0.5 Sn 5 2 0.5 Th 1 0.01 0.005 Ti 5 2 1 U 1 0.01 0.001 B 2 2 1 V 5 5 1 W 300 75 20 Zn 5 2 2 Zr 10 10 10 气体杂质含量/wt（10-4）%,不大于 C 50 50 30 O 100 80 50 N 50 20 20 H 10 15 10 S 20 30 5 杂质总含量/wt（10-4）%，不大于（不包括C、N、H、O） 500 100 50 Ta含量/wt%，不小于 99.95 99.99 99.995 注1：Ta含量为100%减去要求杂质总含量的余量（不含C、N、H、O）。 3.3 尺寸及允许偏差 3.3.1 钽靶材（焊接前） 3.3.1.1 直径及厚度允许偏差应符合表2的规定 表 2几何尺寸及允许偏差单位，毫米 直径 允许偏差 厚度 允许偏差 ≤250 ±0.20 ≤8 ±0.20 ＞250～400 ±0.25 8～15 ±0.25 ≥400～500 ±0.30 ≥15～25 ±0.30 注：如需方对尺寸有其他特殊要求的，由供需双方协商，并在订货单（或合同）中注明。 3.3.1.2 平面度 平面度要求应符合表3的规定。 表3钽靶平面度要求单位，毫米 直径 平面度 ≤250 ≤20.20 ＞250～400 ≤20.35 ≥400～500 ≤20.50 3.3.1.3 表面粗糙度 表面粗糙度Ra≤1.6微米。 3.3.2钽靶材尺寸及允许偏差 钽靶材尺寸及结构一般根据需方提供图纸确定，经供需双方协商确定并