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本发明涉及一种抗水渍瓷砖的生产方法,属于瓷砖生产技术领域。包括以下步骤:(1)素烧:将瓷砖坯体放置在窑炉中进行烧制,制成素坯;(2)施釉:将素坯放置在淋釉线上,通过淋釉器在素坯上淋釉,施釉厚度为1.0‑1.4mm;(3)烧成:将步骤(2)得到的坯料放置在窑炉中进行烧制,得到烧好釉面的瓷砖;(4)研磨:对瓷砖的釉面进行抛光研磨,使其光泽度在0.1‑0.3μm,得到最终可以抗水渍的瓷砖。本发明可以瓷砖表面的光泽度能达到0.1‑0.3μm,使得水体在瓷砖表面具有良好的滑动性,进而避免了水渍的形成。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117885192A
(43)申请公布日2024.04.16
(21)申请号202410067651.6C04B35/00(2006.01)
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