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本实用新型公开了一种新的工艺石英管，包括装置本体，所述装置本体包括工艺石英管、热电偶层、加热器、晶圆和进气路径，所述工艺石英管位于装置本体底部，所述热电偶层安装在工艺石英管外侧，所述加热器安装在热电偶层外侧；所述进气路径安装在工艺石英管底部一侧，且进气路径另一端从工艺石英管另一侧引出，所述进气路径中段呈上下缠绕有两层。该种装置可以十分便捷的让气体在工艺石英管底部充分预热，然后再向上流动就不会影响工艺管内部的温度，工艺管内温度稳定了，生长的氧化膜厚度均匀性才会更好，从而实现改善氧化工艺厚度均匀性的
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220437147U
(45)授权公告日2024.02.02
(21)申请号202321018594.X
(22)申请日2023.04.30
(73)专利权人上海至纯半导体设备有限公司
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