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公开了一种确定至少一个均匀性度量的方法,该均匀性度量描述衬底上的由光刻制造过程形成的蚀刻的沟槽的均匀性。该方法包括获得蚀刻的沟槽的一个或多个图像,其中一个或多个图像中的每个包括在从蚀刻的沟槽散射和/或衍射之后,由检测器或相机所检测的经散射的辐射的一个或多个参数的空间表示;和在一个或多个图像上测量沿蚀刻的沟槽的长度的均匀性,以确定至少一个均匀性度量。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116648669 A
(43)申请公布日 2023.08.25
(21)申请号 202180084332.0 (74)专利代理机构 中科专利商标代理有限责任
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