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本实用新型涉及磁性材料表面蒸发镀铽或镝的设备，包括真空室，位于真空室内的工件固定架，安装在工件固定架上的磁材工件，位于真空室内的电子束蒸发源和离子源；离子源的喷射方向朝向磁材工件，电子束蒸发源的喷射方向朝向磁材工件，电子束蒸发源和磁材工件相对移动或转动，离子源和磁材工件相对移动或转动。设备采用电子束蒸发源进行蒸发镀膜，实现铽或镝原材料在真空环境下被电子束轰击产生热能熔化挥发并在磁材工件表面沉积成膜，这种设备结构均较简单，很容易形成产业化生产应用，属于磁材表面镀铽或镀镝的技术领域。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210215522 U
(45)授权公告日
2020.03.31
(21)申请号 20192
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