JB 8226.4-1999光学零件镀膜 内反射膜.pdf

JB/T 8226.4--1999前 言本标准是对 JB/T 8226.4—95(GB 1322-88)《光学零件镀膜内反射膜》的修订。修订时，对原标准作了编辑性修改，主要技术内容没有变化。本标准自实施之日起，代替JB/T8226.4-95。本标准由全国光学和光学仪器标准化技术委员会提出并归口：本标准负责起草单位：上海光学仪器研究所。17 中华人民共和国机械行业标准JB/T 8226.4—1999光学零件镀膜内反射膜代替 JB,T 8226.4—95Coating for optical element, Rear surface mirror coating范围本标推规定了镀在光学玻璃零件上膜层的技术要求、试验方法、检验规则。本标准适用于在光学玻璃零件上镀有保护层的银或铝内反射膜，用其它材料镀制而成的内反射膜也可参照使用：2引用标准有效。所有标准都会被修订，使用本标准的各方应探讨使用下列标准最新版本的可能性。GB/学零件表面瘫病GB/T2423.1-1989电工电子产品基本环境试验规程试验A：低温试验方法GBT 2423.3--1993电工电子产品基本环境试验规程试验Ca:恒定湿热试验方法GB/T2828一1987逐批检查计数抽样程序及抽样表（适用于连续批的检查）3 分类3.11真空镀银内反射膜。3.2 溶液沉淀法镀银内反射膜。3.3 真空镀铝内反射膜。4 技术要求4.1 镀膜后零件的光学性能4.1.1白光反射比白光反射比R按表1规定。表 1%条号反射比R不小于3. 1903.2883.385国家机械工业局1999-08-06批准2000- 01- 01实施18 JB/T 8226.4-1S994.1.2光谱反射比对光谱反射比有技术要求的,在 =C0mm ~ 700nm 波段上最小反射比 R 按表 2 规定表?%c条号最小反射比R不小于3.1803.2783.3804.2镀膜后零件的表面质量4.2.1外观膜层不允许有损坏痕迹，如起皮、脱膜、裂纹和灰筹等。4.2.2 麻点按抛光表面疮病的原级数 J,其个数 G允许增加 30%。4.2.3 擦痕按抛光表面疵病的原级数 J,其总长度允许增加 30% 。4.2.4 针孔膜层不允许有直径大于 0. 2mm的针孔存在；直径0.01mm~0.2mm的针孔按 4.2.2麻点要求；直径小4.3保护层质量4.3.1保护层应均匀、无气泡和机械损伤。4.3.2保护层对零件表面镀膜应有良好的附着力；当用刀片交又切划时，保护层不允许成片刹落，4.3.33.1和3.2在室温下硫化氢饱和溶液中没泡Sh，银膜应无变化，保护层不允许起层、拉裂和脱落，4.4镀膜后零件对环境的适应性4.4.1 恒定湿热无包装情说下，在温度40℃±2℃，相对湿度90%~95%的条件下保持24h，膜层不元许脱落，光学性能仍符合4.1要求。4.4.2 盐雾无包装情况下，在（重量）浓度为4.9%~5.1%，pH值为6.5~7.235℃)的盐雾中承受连续募8h,膜层不允许脱落，光学性能仍符合4.1要求。4.4.3 低温无包装情说下，在－40℃±3℃的低温中保持2h，膜层应无龟裂、脱落，光学性能仍符合1. 1要求，5 试验方法5. 1 白光反射比(4. 1. 1)用6V，30W白炽灯作光源、硒光电池接收的反射比测量仪，准确度优于1%5. 1. 2 试验程序在膜面有效区域内任意位置上测量反射比，测量时光线人射角取45°5.2 光谱反射比(4.1.1)5.2. 1 试验工具反射比测量装置：准确度优于1.5%和标定好反射比的反射镜。5.2.2 试验程序以标定的反射镜为基准，相对测定被捡零件(厚度不大于1mm)在可见区的光谱反射比。当被捡冬件19 JB/T. 8226. 4—1999不宜测量时，用光学性能相同（折射率、表面粗糙度、等效厚度和同次镀膜）的平面试验片代替，测量时光线人射角小于15°5.3镀膜后零件的表面质量（4.2)5.3.14.2.1用60W～100W的白炽灯照明,以黑色屏幕为背景，在反射光下，目测检验。5.3.2.4.2.2~ 4.2.4 按 GB/T1185 的检验方法c5.4保护层质量(4.3)5.4.14.3.1用60″~100W的白炽灯照明，以黑色屏幕为背景，目检验。5.4.24.3.2在室温下,用锋利刀片在保护层纵横交叉切割 5条~6条,其间距为1mm，目测检验。5.4.34.3.3在室温和无包装情况下，将被检零件浸泡在硫化氢饱和溶液中5h，取出零件，清洁表面后检验。5.5镀膜后零件对环境的适应性(4.4)5.4.1恒定湿热(4.4.1)按 CB/T 2423.3 的规定。5.5.2 盐雾(4.4.2)按GB/T 2423.17的规定。5.5.3 低温(4.4.3)按 GB/T 2423.1 的规定