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本实用新型公开了一种两进两出双工位曝光机,包括机架、上下料机械手、流水线机构、双载具平台、三轴补偿模组、载具体、遮光板CCD定位模组、遮光板升降模组、曝光光源模组和来料CCD定位模组,机架底面四端均固定连接有脚架,本实用新型的有益效果是:平行光源经过遮光板后,遮光板将不需要曝光地方遮住,没有遮住地方的光会照在产品上,利用光的能量事项将产品曝光,通过设置双载具平台,可同时对多个产品进行曝光,生产效率大大提升,同时采用铁氟龙滚轮输送,可更好地保证机器内部洁净度以及保护产品,一套CCD配一个调整平台以
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 209895137 U
(45)授权公告日
2020.01.03
(21)申请号 20192
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