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本实用新型提供一种大面积靶片用离子注入设备,包括有依次相连接的束流发生装置、离子注入机构、真空锁和设备前端传输模组;束流发生装置包括沿离子束传输方向依次相连接的离子源腔体、前拓展腔体、后拓展腔体、中间段腔体和准直腔体;离子源腔体中沿离子束传输方向依次设置有离子源、引出电极和分析磁场组件;前拓展腔体中设置有拓展磁铁组件;准直腔体中设置有准直磁铁组件;离子源腔体、前拓展腔体、后拓展腔体、中间段腔体和准直腔体的高度呈增大的趋势、宽度呈减小的趋势。本方案能够得到所需的极高有效高度的离子束,同时设备整体结
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219246628 U
(45)授权公告日 2023.06.23
(21)申请号 202320775035.7
(22)申请日 2023.04.10
(73)专利权人 浙江鑫钰新材料有限公司
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