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光罩管理系统的优化来降低Haze的影响论文
HAZE REDUCTION BY MASK
MANAGEMENT SYSTEM OPTIMIZATION
ABSTRACT
When Mask used in Fab, mask will grow Haze due to environment and
the method of mask storage. Haze growth is still a challenging topic in the
world, though Haze growth isn’t the biggest problem in the Fab. The
biggest impact is that yield lost by Haze could not be caught in time and
mask with Haze remain in use, and production cycle time delay due to
mask remount. Studies on Haze reduction in the world are focused on how
to find Haze earlier and reduce wafer yield impact.
This paper will show how to optimize mask management system to
meet the target of Haze reduction. We succeeded in setting up mask
inspection system to find early Haze and optimize mask management
system to reduce Haze impact.
KEY WORDS : mask, mask pod, RTMS, Haze, IRIS
V
目 录
第一章 绪论 1
1.1 集成电路发展的历史及趋势 1
1.1.1 什么是集成电路 1
1.1.2 集成电路的分类 2
1.1.3 集成电路发展的历史 3
1.2 课题研究背景和意义 6
1.3 国内外最新研究状况 7
1.3.1 一种Haze形成的新模型和光罩存储时间的评估 7
1.3.2先进的光掩模制造工艺 13
1.4 论文结构框架 17
第二章 Haze现象的描述 18
2.1光罩的基本特性 18
2.1.1 光罩的定义 18
2.1.2 光罩的构成 19
2.2 Haze 缺陷产生的原理和机制 21
2.2.1 Haze 的现象和在wafer上的表现 21
2.2.2 Haze缺陷产生的原理和机制 21
2.2.3 Haze 发生与曝光波长的关系 22
2.3光罩制作流程中对于Haze产生的贡献 23
2.3.1光罩的生产流程介绍 23
2.3.2 光罩生产流程中用到的化学品 25
2.4 光罩使用过程中对Haze的贡献 25
2.4.1 光罩盒的影响 25
2.4.2 Fab 环境的影响 27
2.5 小结 28
第三章 光罩管理系统的介绍 29
3.1光罩管理系统的介绍 29
3.1.1 IT 支持的光罩管理系统 29
3.1.2 光罩盒管理系统 30
VI
3.1.3 光罩存储系统 30
3.1.4 光罩检测系统 31
3.2 目前系统中对光罩产生Haze 的影响 31
3.2.1 光罩盒管理系统的缺陷 31
3.2.2 光罩存储系统的缺陷 34
3.2.3 光罩检测机制的缺陷 35
3.3 优化光罩管理系统来降低Haze产生的发展方向
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