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摘要
磁控溅射制备涂层是一种物理气相沉积，一般的溅射方法可以用于制备金属、半导体、绝缘体等多种材料涂层。TiN薄膜具有良好的导电性和力学性能，被广泛应用在各种硬质刀具，模具，医疗器械，耐磨和工作环境差的工件镀层工艺上。
毕业设计主要是以TiN薄膜力学性能为研究基础，通过磁控溅射技术在纯铁薄片表面制备TiN薄膜。在本实验中其一分别利用射频与直流磁控溅射在纯铁薄片上制备薄膜，对于薄膜的微观形貌本实验采用扫面电子显微镜（SEM）来进行测定比较。其二，选定用直流磁控溅射法来制备TiN薄膜，再改变溅射工艺参数（溅射电流、工作气压、靶基距）来对纯铁薄片
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