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本发明公开一种微结构的制备方法,包括:提供一基底;N次在基底上点涂压印胶并匀胶,各次得到含有第N压印胶层的中间结构;使用模板对中间结构进行压印,制得所述微结构;N≥2,第N压印胶层的点涂位置与第N‑1压印胶层的点涂位置不完全相同,和/或第N压印胶层的点涂位置位于第N‑1压印胶层的点涂位置上;第N‑1次匀胶的最终转速大于第N次匀胶的最终转速。本发明采用在基底上多次点涂压印胶并匀胶的技术方案,通过调整匀胶的转速使相邻两次中前一次的匀胶速度大于相邻两次中后一次的匀胶速度,使得多个压印胶层叠加后在不同的
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117908323A
(43)申请公布日2024.04.19
(21)申请号202311769319.6
(22)申请日2023.12.20
(71)申请人珠海莫界科技有限公司
地址51
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