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本文中的技术包括处理和系统,通过所述处理和系统可以减轻或校正可再现的CD变化图案,以经由分辨率增强从微加工的图案化工艺中产生期望的CD。识别跨一组晶片的CD变化的可重复部分,然后生成校正曝光图案。直写式投射系统使这种校正图案作为分量曝光、增强曝光或部分曝光而曝光在基板上。常规的基于掩模的光刻系统执行作为第二分量曝光或主要分量曝光的初级图案化曝光。两个分量曝光在组合时增强图案化曝光的分辨率以在无需对每个晶片进行测量的情况下改善正在被处理的基板上的CD。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111919283A
(43)申请公布日2020.11.10
(21)申请号201980019971.1(74)专利代理机构北京集佳知识产权代理有限
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