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提供了一种半导体装置及其形成方法。该方法包括:在形成具有小于第一宽度的第二宽度的多个凹槽期间,形成具有所述第一宽度的多个第一沟槽,所述多个第一沟槽和所述多个凹槽中的每一个沿着第一横向方向横向延伸并且在半导体层的上部部分中垂直延伸,所述多个第一沟槽和所述多个凹槽沿着不同于所述第一横向方向的第二横向方向交替布置;在每个凹槽中形成间隔物,其中,所述间隔物沿着所述第一横向方向横向延伸;以及在每个第一沟槽中形成两个断开的导电结构,所述断开的导电结构沿着所述第一横向方向平行地横向延伸。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117598039A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202380009543.7(74)专利代理机构北京永新同创知识产权代理
(22)申请日2023.05.
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