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集成电路封装与测试技术 ;概述;芯片制造与封装工艺流程;前道生产流程:(1)单晶制备;前道生产流程:(2)WAFER制造;前道生产流程:(3)芯片制造;前道生产流程:(4)芯片制造;前道生产流程:(5)测试;后道生产流程:(6)芯片切割;后道生产流程:(7)芯片的粘贴;后道生产流程:(8)芯片互连;后道生产流程:(9)切筋打码成型;后道生产流程:(10)老化测试;后道生产流程:(11)电性能测试;后道生产流程:(12)打码;课程主要内容;电子封装的作用;电子封装的层次;电子封装层次;电子封装分类;电子封装分类;电子组装;电子组装;典型封装器件;封装技术的历史;封装技术的历史;;封装的定义;封装工艺流程;芯片的减薄与切割;芯片的减薄;晶圆减薄前的表面;芯片的减薄;硅片的磨削与研磨;硅片的应力消除;硅片的抛光与等离子体腐蚀;干式抛光的磨轮;TAIKO工艺;晶圆的切割;在高速电子元器件上逐步被采用的低介电常数(Low-k)膜及铜质材料,由于难以使用普通的金刚石磨轮刀片进行切割加工,所以有时无法达到电子元件厂家所要求的加工标准。为此,迪思科公司的工程师开发了可解决这种问题的加工应用技术。减少应力对硅片的破坏作用
先在切割道内切开2条细槽(开槽),然后再使用磨轮刀片在2条细槽的中间区域实施全切割加工。通过采用该项加工工艺,能够提高生产效率,减少甚至解决因崩裂、分层(薄膜剥离)等不良因素造成的加工质量问题。;激光开槽加工;激光开槽加工;激光开槽加工;激光全切割工艺
本工艺是在厚度200μm以下的薄型晶片表面(图案面),用激光照射1次或多次,切入胶带实现晶片全切割的切割方法。因为激光全切割可以加快进给速度,从而可以提高生产效率。;GaAs化合物半导体的薄型晶片切割
;DBG+DAF激光切割
;全激光切割应用于DAG效果;DAF激光切割的优点
1、可改善DAF的加工质量
采用激光切割技术可以抑制采用磨轮刀片切割DAF时产生的毛边。;2、能够进行高速切割,提高生产效率
与磨轮刀片切割相比,可以提高DAF全自动切割时的加工速度。
3、利用特殊校准,可以解决芯片错位问题
;隐形切割技术;隐形切割技术;隐形切割的优点;隐形切割的加工实例;隐形切割的加工实例;隐形切割的加工实例;隐形切割的加工实例;;芯片的粘贴技术;芯片的粘贴技术分类;共晶粘贴法;共晶粘贴的应用;共晶;共晶粘贴图示(AuSn焊料);共晶粘贴材料;共晶粘贴(预成型片法);预成形片;共晶粘贴的其他方法(AuSn);共晶粘贴(电镀法);电镀法;电流密度对电镀的影响;电镀AuSn结构(下图为直接电镀);共晶粘贴法(蒸发法);蒸发法;共晶粘贴注意事项;焊接粘贴法;导电胶粘贴法;各向同性导电胶;各向异性导电胶;各向异性导电胶;导电胶使用注意事项;玻璃胶粘贴法;总结;;芯片的互联技术;芯片的粘贴技术分类;引线键合;引线键合;三种基本的引线键合方法;球形键合;球形键合;楔形键合;楔形键合;键合接头形貌;键合设备;楔形键合楔形,手工键合机;楔形劈刀和毛细管劈刀;载带键合技术;什么是TAB?;TAB工艺步骤;凸点的制作——I;凸点的制作——II;凸点的制作——示意图;凸点的制作——示意图;TAB薄膜载带的制作;;内引线键合(ILB);外引线键合(OLB);倒装芯片键合;什么是倒装芯片?;第一步:凸点底部金属化;第二步:回流形成凸点;第三步:倒装芯片组装;第四步:底部填充与固化;;厚膜薄膜技术的区别;厚膜工艺技术;厚膜技术;厚膜技术工艺流程;(1)丝网印刷;(2)厚膜浆料的干燥;(3)厚膜浆料的烧结;厚膜材料;氧化铝陶瓷基板;多层陶瓷基板;厚膜多层法
厚膜多层法是在烧成的氧化铝基板上交替地印刷和烧结厚膜导体(如Au、Ag-Pd等)与介质浆料而制成,导体层之间的连接是在介质层上开孔并填入导体浆料,烧结后而相互连接起来。
印刷多层法
它是在生的氧化铝陶瓷基板上印刷和干燥Mo、W等导体层,然后再其上印刷和干燥与基板成分相同的Al2O3介质浆料,反复进行这种工序到所需层数,再将这种基板在1500-1700的还原气氛中烧成,基板烧成后,在导体部分镀镍、金以形成焊区,焊接外接元件。
;;厚膜物质组成;(1)有效物质;(2)粘贴成分;(3)有机粘贴剂
;(4)溶剂或稀释剂
;;;焊接材料;焊料;湿润角;焊料的形式和作用;焊料的形式和作用;焊膏;(3)焊接加热时,由于熔融焊膏的表面张力可以校正元器件位置的微小偏离。
2、焊膏的分类和组成
;143;
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