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本发明公开了一种用于MOCVD设备的上下料系统及方法,属于MOCVD领域,系统包括上料功能区、下料功能区、衬底搬送机械臂、托盘搬送机械臂以及上位机;上料功能区中设置有衬底上料工位、托盘上料工位以及组合工位,衬底上料工位中设有衬底上料盒,托盘上料工位中设有托盘上料盒,组合工位中设有用于检测衬底与托盘之间组合状态的检测装置;下料功能区中设有分离工位、托盘下料工位及衬底下料工位,分离工位中设有分离装置,托盘下料工位中设有托盘下料盒,衬底下料工位中设有衬底下料盒;上位机与衬底搬送机械臂、托盘搬送机械臂、
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117284752A
(43)申请公布日2023.12.26
(21)申请号202311146978.4
(22)申请日2023.09.06
(71)申请人中晟半导体(上海)有限公司
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