SJ∕T 11491-2015 短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量.pdf

ICS29.045

时82

备案号：50548-2015

中华人民共和国电子行业标准

J/T11491-2015

短基线红外吸收光谱法测量

硅中间隙氢含量

Testmethodsformeasurementofinterstitialoxygencontentinsiliconbyshort

baselinein丘aredabsorptionspec仕ometry

2015-04-30发布2015一10-01实施

中华人民共和国工业和信息化部发布

SJ/T11491-2015

目IJ吕

吃1不忌担识别这些专利的责任。

203）归口。

．业和信息化部电子工业标准化研究院、

SJ/T11491-2015

短基线红外吸收光谱法测量

硅中间隙氢含量

1范围

－准规定了用短基线红外光谱法测定硅中间隙氧含血，

°：：：：：：：：：；：：号军副百踹；！唱：段时中间隙氧含

2术语和定义

2.1

空气等信息．

2.2

基线

2.3

2.4

参比方法

获得含氧测试样rrn

用测试样品光谱计算扣除

的红外透射光谱，要求工

2.5

参比光谱referencespectrum

参比样品的光谱。用双光束光谱仪测试l时，可以把参比样品放在样品光路测量，让参比光路空着

由参比样品光i普计算扣除背景光潜获得参比样fll~光谱：用单光束光谱仪测试时，直接用参比样品光谱计

算扫除背最光谱获得参比样品光谱。

2.6

样品光谱samplespectrum

SJ/T11491-2015

测试样品的光谱。用双光束光谱仪测试时，可以把测试样品放在样品光路测量，让参比光路空着，

由测试样品光谱计算扣除背景光谱获得测试样品光谱：用单光束光谱仪测试时，直接用测试样品光谱、

算扣除背景光谱获得测试样品光谱。

3方法原理

1用经过校准的红外光谱仪和无氧的参比样品，通过参比方法获得含氧样品的红外透射谱，然后利

用硅中间隙氧原子在被数为门07cm1(9.03µm）处红外吸收峰的吸收系数，来确定间隙氧原子浓度．

4干扰因素

4.1在氧的吸收谱带附近何一个硅品格的吸收振动谱带，测试时要求无氧参比样品的厚度与测试样品

的厚度差应小于士0.5%，以避免硅品格吸收的影响。

4.2由于氧吸收潜带和！硅品格吸收谱带都会随着样品的温度而改变，因此要求在测试过程中保证样品

室的温度恒站在在27℃土5·ca

4.3电阻率低于I.On.cm的n型硅单品和电阻率低于3.on·cm的p型硅单品中的自由载流子吸收较

为严重，要求测试样品｛内电阻率与参比样品的电阻率尽可能接近，这样才