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本发明公开了一种晶圆清洗设备,包括:清洗槽,所述清洗槽内包括清洗液,用于清洗晶圆;抽风口档板,设置在所述清洗槽上方的抽风口处,以避免所述抽风口直接对着晶圆抽气;槽区挡板,围绕所述清洗槽的槽口设置,以避免所述清洗槽上方的气体串流。根据本发明提供的晶圆清洗设备,通过在清洗槽上方的抽风口处设置抽风口挡板,避免抽风口直接对着晶圆抽气,从而避免了晶圆快速风干表面形成局部氧化,通过围绕清洗槽的槽口设置槽区挡板,避免了不同类型的酸气在槽区之间横向串流,通过共同设置抽风口挡板和槽区挡板改变了晶圆清洗设备槽区内循
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116884879 A
(43)申请公布日 2023.10.13
(21)申请号 202310886685.3
(22)申请日 2023.07.18
(71)申请人 荣芯半导体(淮安)有限公司
地址
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