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本发明公开了一种基于纳米压印的线栅圆偏振片,涉及纳米压印、线栅偏振片技术领域,包括衬底和位于衬底上下两侧的反射层和旋光层,所述反射层和旋光层均为纳米线栅,且均由多组相互平行的线栅组成;所述反射层的纳米线栅的光栅周期∧1远小于该纳米线栅的工作波长;所述旋光层的纳米线栅的光栅周期∧2远小于该纳米线栅的工作波长;所述反射层对入射光进行偏振分光,其反射光为TE模,透射光为TM模;所述旋光层的纳米线栅方向与所述反射层的纳米线栅方向存在夹角θ。本发明通过将两片纳米线栅集成在同一衬底上,实现“起偏器—1/4玻
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116719114 A
(43)申请公布日 2023.09.08
(21)申请号 202310588773.5
(22)申请日 2023.05.19
(71)申请人 中国科学技术大学
地址 2300
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