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本实用新型公开了一种增设加热炉的等离子体处理设备,其包括依次连接的进料区、加热区、过渡区、处理区以及取料区;进料区设有第一传送机构及驱动其升降的第一驱动机构;加热区设有加热炉及位于其下方的第二传送机构;过渡区设有第三传送机构及驱动其升降的第三驱动机构;处理区设有等离子体真空箱以及位于其下方的第四传送机构;取料区设有第五传送机构及驱动其升降的第五驱动机构;当第一传送机构、第三传送机构、第五传送机构三者升到最高位时,与加热炉、等离子体真空箱平齐,当降至最低位时,与第二传送机构、第四传送机构平齐。本实
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 210169195 U
(45)授权公告日
2020.03.24
(21)申请号 20192
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