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本发明涉及掩膜版技术领域,提出一种掩膜版的制作方法,该掩膜版的制作方法包括:在承载基板上形成高分子材料层;在高分子材料层上形成压印胶;利用与掩膜板图案对应的模具在对压印胶进行压印;对压印后的压印胶以及高分子材料层进行刻蚀,从而在高分子材料层上形成掩膜版图案;将承载基板从高分子材料层剥离,从而形成掩膜版。本公开通过上述工艺可以形成较薄的高分子材料层作为掩膜版。一方面,较薄的高分子材料层上可以形成密度较高的开孔作为掩膜版图案;另一方面,高分子材料的密度较小,在对高分子材料层进行张网时,高分子材料层各
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 108866478 A
(43)申请公布日
2018.11.23
(21)申请号 20181
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