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本实用新型提供了一种清洗设备及清洗液供应装置,清洗设备包括清洗槽和清洗液供应装置,清洗液供应装置包括流量调节阀和至少两个清洗液供应管路,至少两个清洗液供应管路并联;每个清洗液供应管路包括至少一个喷头,喷头设置在清洗槽内,并将清洗液喷入清洗槽;至少一个清洗液供应管路上设置所述流量调节阀,流量调节阀调节对应的清洗液供应管路供应的清洗液的流量。如此配置,可以使得进入清洗槽内的清洗液的总流量较为平稳地增加,避免总流量突然变化而瞬间冲击晶圆,引起晶圆震动或移位,导致晶圆缺陷或破片,提高产品良率和稳定性。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 219273857 U
(45)授权公告日 2023.06.30
(21)申请号 202320577071.2
(22)申请日 2023.03.22
(73)专利权人 合肥晶合集成电路股份有限公司
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