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本发明公开了一种N元素调控Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜的方法,其步骤为:以Ta靶和W靶作为靶材,采用氩气为溅射气体,氮气为反应气体,通过直流磁控溅射靶材,在基底上获得Ta0.5W0.5Nx硬质薄膜。本发明通过多靶直流磁控溅射从W2N到Ta0.5W0.5Nx薄膜的过渡设计,利用氮含量调控Ta0.5W0.5Nx薄膜的价电子浓度,使得钨元素取代钽元素,制备x值为0.82~1.02的单相固溶结构薄膜,其表面结合延性金属材料钨和氮化物的优点,形成兼具高硬度和韧性的特性,可以有效提高薄膜的强韧性,在耐磨损
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 116288204 A
(43)申请公布日 2023.06.23
(21)申请号 202310234476.0
(22)申请日 2023.03.1
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