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本发明涉及一种高压水射流清洗设备,包括清洗室,清洗室内设有射流清洗装置、清洗物定位装置,射流清洗装置包括导轨座,导轨座上设有喷枪滑座,喷枪滑座上设有喷枪,导轨座的下方设有循环水柜,循环水柜的进口与清洗室的漏水地面连通,循环水柜的出口与喷枪连通,喷枪通过喷枪滑座在导轨座上移动至喷射清洗位置,高压泵将循环水柜内的喷洗液加压从喷枪喷射出清洗设在清洗物定位装置上的待洗目标物,射出的喷洗液从清洗室的漏水地面回流至循环水柜。本发明采用封闭的射流清洗作业环境结合水循环利用方案,具有环保以及节约水源的特点。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113385460 A
(43)申请公布日
2021.09.14
(21)申请号 20201
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