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本发明公开了一种微米级功能结构的振动铁磁流体超精密抛光方法,包括以下步骤:在待抛光工件的微结构中注入抛光液,抛光液包括铁磁流体、非磁性磨粒和水;通过磁场聚焦机构将外加磁场聚焦在工件的特定抛光部位,并控制外加磁场或工件的振动及运动轨迹,抛光液中铁磁流体在磁场的作用下限制非磁性磨粒自由移动,使非磁性磨粒始终垂直于微结构形貌振动打磨并沿微结构形貌走向运动打磨。本发明通过将磁场聚焦于待抛光微结构特定部位,用以控制磨粒在小范围特定区域抛光,根据加工工况,控制形成不同大小、形状的聚焦磁场,等同于“柔性抛光磨
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 CN 113172487 A
(43)申请公布日 2021.07.27
(21)申请号 202110428045.9
(22)申请日 2021.04.21
(71)申请人 华中科技大学
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