JJF 1967-2022CN 激光衍射法反射光栅校准规范.docx

中华人民共和国国家计量技术规范 JJF 1967—2022 激光衍射法反射光栅 校准规范 Calibration Specification for Reflection Gratings by Laser Diffraction 2022-04-29发布 2022-10-29实施 国 家 市 场 监 督 管 理 总 局 发 布 JJF 1967—2022 激光衍射法反射光栅 校准规范 Calibration Specification for Reflection Gratings by Laser Diffraction JJF 1967—2022 归 口 单位：全国新材料与纳米计量技术委员会 主要起草单位：中国计量科学研究院 参加起草单位：同济大学 本规范委托全国新材料与纳米计量技术委员会负责解释 JJF 1967—2022 本规范主要起草人： 殷 聪(中国计量科学研究院) 石春英(中国计量科学研究院) 参加起草人： 王建波(中国计量科学研究院) 程鑫彬(同济大学) 邓 晓(同济大学) JJF 1967—2022 I 目 录 引言 (Ⅱ) 1 范 围 ( 1) 2 引用文件 ( 1) 3 术语和计量单位 ( 1) 3.1 光 栅 ( 1) 3.2 反射光栅 ( 1) 3.3 间 距 ( 1) 3.4 平均间距 ( 1) 3.5 利特罗结构 ( 1) 3.6 利特罗角 ( 1) 3.7 二维光栅正交性 ( 1) 4 概 述 ( 2) 5 计量特性 ( 2) 6 校准条件 ( 2) 6.1 环境条件 ( 2) 6.2 测量标准及其他设备 ( 3) 7 校准项目和校准方法 ( 3) 7.1 一维反射光栅平均间距 ( 3) 7.2 二维反射光栅平均间距 ( 4) 7.3 二维反射光栅正交性 ( 4) 8 校准结果表达 ( 5) 9 复校时间间隔 ( 5) 附录A 校准记录内容 ( 6) 附录B 校准证书内页内容 ( 11) 附录C 不确定度评定示例 ( 13) 附录D 衍射法测量反射光栅间距的原理 ( 22) JJF 1967—2022 Ⅱ 引 言 本规范依据JJF 1001 《通用计量术语及定义》、 JJF 1071 《国家计量校准规范编写 规则》编制，参考了IEC/TS 62622:2012 《纳米技术 人造光栅的描述，测量和几何 量的质量参数》 (Nanotechnologies—Description, measurement and dimensional quality parameters of artificial gratings)、Nano4一维光栅比对 (Nano4 comparison on 1D grat- ings)、Nano5 二维光栅比对 (Nano5 comparison on 2D gratings), 测量不确定度的评 定按照JJF 1059.1 《测量不确定度评定与表示》进行。 本规范为首次发布。 JJF 1967—2022 1 激光衍射法反射光栅 校准规范 1 范围 本规范适用于平均间距为(140～2000) nm、 能观测到衍射现象的一维或二维反 射光栅的校准。 2 引用文件 本规范引用了下列文件： GB/T 13962—2009 光学仪器术语 凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本规范；凡是不注日期的引用文 件，其最新版本(包括所有的修改单)适用于本规范。 3 术语和计量单位 3.1 光栅 grating 一种表面排列大量精细的、相互平行的、等距的、周期性的、相同的结构的光学器 件。其周期性结构既可以是直线阵列，也可以是沿直线排列的点阵。 注：此处光栅的定义与GB/T13962—2009《光学仪器术语》6.139中光栅的定义不同。此处的 定义仅针对被校准对象的特征。 3.2 反射光栅 reflection grating 入射光与衍射光在光栅工作面同一侧的衍射光栅。 3.3 间距 pitch 光栅上相邻结构之间的距离。 注1:单位为nm。 注2:一般用结构的中心距确定间距，有些情况下也可以用结构的边界确定间距。 3.4 平均间距 mean pitch 由光栅上多个间距确定的间距的平均值。 注：单位为 nm。 3.5 利特罗结构 Littrow configuration 反射光栅衍射时，衍射光与入射光重合时的光路结构。 3.6 利特罗角 Littrow angle 当反射光栅的衍射光与入射光重合时的衍射角。 注；单位为rad。 3.7 二维光栅正交性