第1章半导体工艺及器件仿真工具SentaurusTCAD.pdf

第1章 可制造性设计工具 Sentaurus TCAD Sentaurus简介 • Sentaurus TCAD全面继承了Tsuprem4 ，Medici和ISE- TCAD的特点和优势，它可以用来模拟集成器件的工艺制 程，器件物理特性和互连线特性等。 • Sentaurus TCAD提供全面的产品套件，其中包括 Sentaurus Workbench, Ligament, Sentaurus Process, Sentaurus Structure Editor, Mesh Noffset3D, Sentaurus Device, Tecplot SV，Inspect, Advanced Calibration等等。 2020-09-23 浙大微电子 2/117 Sentaurus简介 • Sentaurus Process和Sentaurus Device可以支持的仿 真器件类型非常广泛，包括CMOS ，功率器件，存储器， 图像传感器，太阳能电池，和模拟/射频器件。 • Sentaurus TCAD还提供互连建模和参数提取工具，为 优化芯片性能提供关键的寄生参数信息。 2020-09-23 浙大微电子 3/117 Sentaurus TCAD的启动 • 运行vncviewer • 在xterm 中输入： source /opt/demo/sentaurus.env • GENESISe 2020-09-23 浙大微电子 4/117 2020-09-23 浙大微电子 5/117 2020-09-23 浙大微电子 6/117 本章内容 1 集成工艺仿真系统Sentaurus Process 2 器件结构编辑工具Sentaurus Structure Editor 3 器件仿真工具Sentaurus Device 4 集成电路虚拟制造系统Sentaurus Workbench简介 2020-09-23 浙大微电子 7/117 本章内容 1 集成工艺仿真系统Sentaurus Process 2 器件结构编辑工具Sentaurus Structure Editor 3 器件仿真工具Sentaurus Device 4 集成电路虚拟制造系统Sentaurus Workbench简介 2020-09-23 浙大微电子 8/117 Sentaurus Process 工艺仿真工具简介 Sentaurus Process是当前最为先进的工艺仿真工具， 它将一维，二维和三维仿真集成于同一平台中，并面向当代 纳米级集成电路工艺制程，全面支持小尺寸效应的仿真与模 拟。Sentaurus Process在保留传统工艺仿真软件运行模式 的基础上，又做了一些重要的改进。 2020-09-23 浙大微电子 9/117 •增加了模型参数数据库浏览器（PDB ），为用户提供了 修改模型参数和增加模型的方便途径。 •增加了一维模拟结果输出工具Inspect和二维、三维模拟结 果输出工具（Tecplot SV ）。 •增加了小尺寸模型。这些小尺寸模型主要有： − 高精度刻蚀模型， −基于Monte Carlo 的离子扩散模型， −注入损伤模型， − 离子注入校准模型等等。 增加了这些小尺寸模型，提高了工艺软件的仿真精度， 适应了半导体工艺发展的需求。 2020-09-23