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刻蚀衍射光栅色散特性分析-光子学报
32 3 Vol32 No3
2003 3 ACTA PHOTONICA SINICA March 2003
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宋 军 何赛灵 何建军
( , , 310027)
对作为波分复用关键器件之一的刻蚀衍射光栅( EDG) 的色散特性提 了一种完整的计算
方案, 分析了器件强度响应和相位响应之间的内在关系. 同时通过模拟计算提 并验证了平坦化的
同时加剧了色散, 以及适当改善频谱响应带通纹波大小可以在一定程度上降低器件的色散. 最终指
了使用渐变的抛物线结构多模干涉更有利于得到综合性能最优的平坦频谱.
色散; 刻蚀衍射光栅(EDG) ; 波分复用; 平坦化; 相位响应; 带通纹波
TN256 A
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0
,
( DWDM) ,
[6]
, . ( IIR) .
( EDG) ,
( EDG) , ,
[ 1]
. , ,
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, ,
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. , ,
, .
,
[ 3]
.
,
,
.
, 图1 刻蚀衍射光栅解复用器件示意图
, , Fi . 1 Schematic dia ram of a demultiplexer based
on an etched diffraction ratin
, , 40 GbS,
[ 4] 1, ( EDG)
. [ 5] , [ 8]
Paschen , Rowland ,
.
Rowland ,
Rowland 2
, ,
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, , ,
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1 , ,
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