生化制药纯水处理工艺流程及主要设备.pdfVIP

生化制药纯水处理工艺流程及主要设备 一、工程概况： 随着电子工业的发展，提出了越来越多的高质量要求高纯水和高纯水生产的需求正迅速 增长。这个例子是德国最近建立了集成电路产品用于生产医用纯水系统。与一个典型的高纯 水系统差异不大，医院中央纯水设备公司强调了电子行业的辩论一些熟悉的问题。 二、设计原始资料： 制作 16K 位集成电路(DRAM)时，对水质的要求：TOC 0.5mg/L，金属离子为1mg/L，微 粒(≥0.2mm)为100 个/ml。而制作16M 位DRAM 时，对水质的要求：TOC5mg/L，金属离子 0.2mg/L，微粒(≥0.1mm)为0.6 个/ml。 三、工艺流程及主要设备： 1.预处理： 预处理包括活性炭过滤器、软化器和阻垢剂投加装置。对RO 组件中的聚酰胺复合膜， 由于它的耐氯性能差，但适用pH 值范围广。活性炭过滤能有效地去除氯。而活性炭过滤后， 往往会增加水中细菌和微粒子的含量。软化器可以减少水中粒子含量，由于树脂表面带有少 量电荷，会提高软化器的活性，因此软化器预处理可以减少RO 组件的粒子污染。 2.RO 系统： RO 膜一般能去除原水中95%～99%的TDS，而对二氧化硅(SiO2)的去除效果则不佳，因 此RO 被认为是预脱矿质过程，为了提高RO 的效率，采用了两段RO 系统。这种两段脱盐系 统采用了低压复合膜，既能保证水通量，又不降低脱盐率，它所需的操作压力为1.38～ 1.72MPa，所以两段RO 能在低于0.27MPa 压差下工作，并大幅度提高了离子的分离性能。若 单级RO 膜的截留率为95%，两段RO 盐的透过率为(0.05)2或0.0025。因此，通过两段RO 计算的截留率应为99.75%，复合膜也能提高SiO2 的截留率。 3.后处理： RO 装置产水放入贮槽中，以便进行后续的离子交换(IX)和筒式过滤器处理。往贮槽加 入臭氧，使有机物和氧化剂接触转化成羧酸类物质以减少粒子生成。贮水槽出水经254nm 紫外线灭菌器，旨在消除臭氧残留物，保护后续的IX 装置和筒式过滤器免受臭氧降解。该 系统也由两个IX 装置组成，每个混床后均设亚微米筒式过滤器和紫外线灭菌器。用0.45mm 筒式过滤器捕集主混床漏出的树脂颗粒，主混床下游选用18.5nm 紫外光，它除杀灭细菌外， 还可使有机物少量氧化。 四、对预处理和后处理设备的维护： 活性炭过滤器、软化器均采用轻便可更换单元组件，以便失效后随时更换。为此必须设 置易于操作的更换连接件。对于离子交换混床中的主床和精床放在一起便于再生，为了防止 高纯水的受污染，应采用高级管材，而且管道输送距离应尽可能短。 (1)在RO 膜正式加负载前，应先开始RO 预处理系统操作，预处理的水用于彻底地冲洗 RO 压力容器和管道系统。 (2)RO膜加负载，操作R0 系统，同时排放最初的产水。此过程持续到下述条件中的— 个或几个满足为止。即RO 系统在稳定的脱盐性能下持续运转48h;RO 产水TOC 浓度不高于进 水TOC 的10%;RO 产水的TOC 低于 100mg/L。 (3)装满贮槽并清洗后排放，如此循环两次。 (4)用RO 产水灌装贮槽至一半容量时，启用臭氧发生器，贮槽中水被臭氧氧化至浓度 200～500mg/L。 (5)将贮槽的臭氧化水循环流遍精处理的分配系统，持续24h。 (6)排空系统，用新鲜的RO 产水重新充装罐，重新建立臭氧浓度，然后在系统内循环 1 h。 (7)启动贮槽下游的紫外线灭菌器，再循环至少2h，然后调节臭氧发生器实现贮槽中稳 定的臭氧余量，证实在紫外线灭菌器的下游各处臭氧浓度为零。 (8)由分配泵的排放口至树脂捕集过滤器的下游建立与臭氧相容的管路。当通过IX 精处 理单元的循环连续运行时，使系统连续臭氧化。使系统中臭氧浓度为40～80mg/L， TOC10mg/L，及下游出口处0.2mm 的微粒30 个/ml。 仅在每个起点开始每个处理单元，然后进行单元测试，证明单位在手术后预期的性能， 然后开始下一个单元。启动过程必须超过30 天。这样，不管什么问题可以很容易识别和处 理。