ODF液晶滴下优化.pdf

第 卷 第 期 液 晶 与 显 示 ， ２６ ３ Ｖｏｌ．２６Ｎｏ．３ 　 　 　 　 　 年 月 ， ２０１１ ６ ＣｈｉｎｅｓｅＪｏｕｒｎａｌｏｆＬｉｕｉｄＣｒｓｔａｌｓａｎｄＤｉｓｌａｓ Ｊｕｎ．２０１１ ｑ ｙ ｐ ｙ 文章编号： （ ） １００７２７８０２０１１０３０３２４０５ 犗犇犉工艺中液晶滴下量的优化 杨国波，王永茂，王向楠，程 石，石天雷 　 （成都京东方光电科技股份有限公司，四川 成都 ６１１７３１） 　 摘 要：研究了小尺寸液晶显示器件 （ ）工艺中液晶滴下量对漏液晶和低温气泡的影响， ＯＤＦＯｎｅＤｒｏ Ｆｉｌｌｉｎ 　 ｐ ｇ 确定了液晶滴下量的安全范围。开发了液晶滴下设备与 高度检测设备联动的新型液晶滴下方法，有效地 ＰＳ 解决了 产品在 工艺中发生漏液晶和低温气泡的问题。 ＰＳ ＯＤＦ 关 键 词： ； ； ；漏液晶；低温气泡 ＬＣＤＯＤＦＰＳ 　 　 中图分类号： 文献标识码： ： ／ ＴＮ１４１．９ Ａ 犇犗犐 １０．３７８８ＹＪＹＸ０３２４ 　　　 　　　 犗 狋犻犿犻狕犪狋犻狅狀狅犳犔犆犇狉狅 犃犿狅狌狀狋犻狀犗犇犉犪狀犱犘犛犘狉狅犮犲狊狊 狆 狆  ， ， ， ， ＹＡＮＧＧｕｏｂｏ ＷＡＮＧＹｏｎｍａｏ ＷＡＮＧＸｉａｎｎａｎ ＣＨＥＮＧＳｈｉＳＨＩＴｉａｎｌｅｉ ｇ ｇ （ ， ， ， ） 犆犺犲狀犱狌犅犗犈犗 狋狅犲犾犲犮狋狉狅狀犻犮狊犜犲犮犺狀狅犾狅 犆犗． 犔犜犇 犆犺犲狀犱狌 ６１１７３１ 犆犺犻狀犪 犵 狆 犵狔 犵 　 ： 犃犫狊狋狉犪犮狋Ｔｈｅｉｍ ａｃｔｏｆｔｈｅＬＣｄｒｏ ｉｎ ａｍｏｕｎｔｏｎｔｈｅＬＣｌｅａｋａｎｄｃｏｌｄｂｕｂｂｌｅｉｎｔｈｅＯＤＦ ｐ ｐｐ ｇ ， ， ｒｏｃｅｓｓｗａｓｒｅｓｅａｒｃｈｅｄ ａｎｄｔｈｅｓ